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第一三八七章 折中方案(第1页)

“各位董事,要是euv

llc联盟在未来二年内从理论上证明研制euv光刻机的技术可行,将这个宝贵的机会和重任交给gca,公司不可能放弃,但投资巨大,半导体产业陷入衰退又不可避免,避免两线作战,造成资金捉襟见肘,我们只能将重心放在euv光刻机的研制上。我建议艾德里安先生和汤普森院长出面找svg商谈,联合开发157n激光器。”

孙健估计,euv

llc联盟在明年底前就能证明制造euv光刻机在理论上的可行性,但euv光刻机量产最起码还需要10年,如今也不能告诉大家,到时由bsec免费提供193n浸没式光刻机专利技术给gca。

bsec是在gca拥有的还未完,请后面精彩内容!

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